Cobetterでは、ウエハープロセスで使用されるパーティクル除去を目的とした様々なアプリケーションに対応するフィルターラインナップを取り揃えています。

コストダウンやろ過性能向上といったニーズに対して、従来品に替わるフィルターの提案が可能です。また、後工程や高粘度薬液に最適なフィルターについても独自に開発を進めております。

フィルター及びハウジングの種類

カードリッジタイプ、ディスポーザブルタイプ、POU フィルターをラインナップしており、用途に合わせた提案が可能です（フィルターサイズ・継ぎ手など選択可）。

カードリッジタイプ

ハウジングからの脱着が可能で、フィルターのみの交換が可能です。

ディスポーザブルタイプ

カードリッジとハウジングが一体型となったタイプで、主に危険な薬液を高温で使用するウエハー洗浄プロセスで多用されます。

Litho POU フィルター

塗布現像装置に用いるPOU（Point Of Use）フィルターで、レジストの他現像液・DIW用のワンタッチフィルターのラインナップを取り揃えています。

Cobetter Filter Img01

ハウジング材質は、PP / PFA / PVDFといった樹脂製や、SUS製ハウジングをラインナップ。お客様の要望に応じたライニング対応やマルチハウジングでの提供も可能です。

メンブレン（膜）の種類

半導体前工程のウェットプロセスで使用するPTFEフィルターをはじめ、リソグラフィープロセスで使用するUPEやNylonといったメンブレンのラインナップが充実。高除去率・高流量・極めて高い清浄度を実現する新開発のPolyimideも新たな選択肢として追加。

孔径や洗浄グレードの選択肢も豊富で、先端プロセスまでカバーできます。

PTFE（疎水性・親水性膜）

耐薬品性が高く、高温ろ過での使用も可能です。

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用途
酸、アルカリ系薬液のろ過に幅広く適用可能

特徴

高い耐薬品性
表面特性（親水性）の調整が可能
カートリッジとコンパクトカプセルのラインナップ（柔軟なサイズオプション）
オールテフロンフィルターディスポタイプは形状・継ぎ手タイプの選択が可能
金属・有機抽出を考慮した洗浄グレードの選択肢
Prewet品での供給が可能です（オプション）

Chemphobicシリーズ　オールテフロンフィルター

構成部材（サポート材・シェル・ケージ）	PFA
孔径	疎水性PTFE：5nm~

Chemrapidシリーズ　オールテフロンフィルター

構成部材（サポート材・シェル・ケージ）	PFA
孔径	Non-dewetting PTFE: 2nm～

Chemvastシリーズ

構成部材（サポート材・シェル・ケージ）	HDPE
孔径	疎水性PTFE：5nm~ 親水性PTFE：50nm~ Non-dewetting PTFE：2nm~

Chemegaシリーズ

構成部材（サポート材・シェル・ケージ）	PP
孔径	疎水性PTFE：5nm~ 親水性PTFE：50nm~

UPE（超高分子量ポリエチレン）

レジストや半導体ケミカル品のろ過に適しています。

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用途
フォトレジスト、溶剤、シンナー、有機レジスト剥離液

特徴
高除粒子性能高い初期清浄度カートリッジとコンパクトカプセルのラインナップ（柔軟なサイズオプション）金属・有機抽出を考慮した洗浄グレードの選択肢 Prewet品での供給が可能です（オプション）

構成部材（サポート材・シェル・ケージ）	HDPEまたはPP
孔径	Sub 1nm未満~1.0um

Nylon（Nylon66）

溶剤ベースのフォトケミカルのろ過に適しています。

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用途
フォトリソグラフィーに用いられる、ほぼ全ての有機溶剤・光化学薬品 ※フォトレジスト、反射防止膜（BARC）、光酸発生剤（PAG）など

特徴
ほとんどのフォトケミカルに対する高い濡れ性アミド基による金属・パーティクルの吸着能カートリッジとコンパクトカプセルのラインナップ（柔軟なサイズオプション）金属・有機抽出を考慮した洗浄グレードの選択肢

構成部材（サポート材・シェル・ケージ）	HDPEまたはPP
孔径	1nm~0.2um

HAPES（高非対称PES膜）

高非対称膜構造なので長寿命が期待できます。

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用途
BOE、DHF、DIW、SC1、SC2

特徴

親水性・疎水性膜（親水性膜は50nmまで選択可）
半導体向けフィルターとして高い薬液耐性と耐熱性を有します
1次側から2次側へと孔径が小さくなる緻密な高非対称膜構造
非対称膜を採用することで捕捉を分散し、長寿命が期待できます
カートリッジとディスポーザブルのラインナップ（柔軟なサイズオプション）
金属・有機抽出を考慮した洗浄グレードの選択肢
Prewet品での供給が可能です（オプション）

構成部材（サポート材・シェル・ケージ）	HDPE
孔径	1nm、2nm 、5nm 、10nm 、 20nm 、30nm 、50nm 、0.1um

Polyimide（ポリイミド膜）

新開発のポリイミド膜を採用。高除去率・高流量・極めて高い清浄度を実現します。

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用途
フォトケミカル材料や有機溶剤のろ過ポリイミドや後工程材料などの高粘度薬液

特徴
独特なハニカム構造により、連通孔への衝突を通して高い除去率と高流量を実現ポリイミド膜に特化したオリジナル洗浄方法の採用による極めて高い初期清浄度均一な孔径分布により、高粘度ろ過におけるマイクロバブル発生を抑制

構成部材（サポート材・シェル・ケージ）	HDPE
孔径	1nm、2nm、0.2μm（0.2umは近日上梓予定）

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